*株式会社堀場製作所
半導体洗浄プロセス用の薬液濃度モニタCS-300 シリーズを開発・製品化した。本シリーズには、有機物除去用薬液を測定する硫酸過酸化水素水溶液SPM モニタCS-340、金属不純物除去用薬液を測定する塩酸過酸化水素水溶液SC-2モニタCS-342、自然酸化膜中の金属不純物除去用薬液を測定するフッ酸過酸化水素水溶液FPM モニタCS-343 がラインアップされている。本シリーズはすでに製品化済みのアンモニア過酸化水素水溶液を測定するSC-1 濃度モニタCS-220 と合わせ、洗浄工程の厳密な管理に役立つものと期待されている。本稿では測定原理、機器構成そして高精度測定を実現した主な技術課題を紹介する。