溶存オゾンモニタ OZ-96

*株式会社コス

最近、半導体デバイスや液晶パネルの製造プロセスでは基板洗浄やレジスト膜の除去にオゾン水を使うケースが増えている。これらの生産ラインの歩留まりを高く安定に保つためにオゾン水の濃度をリアルタイムに監視することが重要である。この度、（株）コスは紫外線吸収法による溶存オゾンモニタOZ-96を開発した。本稿ではOZ-96の測定原理・特性を報告する。