*Jobin Yvon S.A.S
高周波グロー放電発光分析法（RF-GD-OES）は薄膜や導電性・非導電性材料のデプス・プロファイルを測定するのに優れた分析方法である。近年、RF-GD-OESの高い分析感度を利用して薄膜の分析や種々の材料の最表面評価用として用途が広がっている。特にnmオーダで深さ方向の分析が可能である点が注目されている。本稿ではRF-GD-OESの具体的な応用としてハードディスクの分析例を紹介する。また陽極酸化アルミニウム膜のデプス・プロファイルの定量分析精度を改善するために開発したソフトウェアJY Quantum IQを紹介する。