HORIBA
Search English
China
  • 产品
    • 汽车
    • 医疗
    • 过程与环境
    • 科学仪器
    • 半导体
    • 水与液体
    • 全部产品
    • 行业分类
      • 艺术品/博物馆
        • 文物保护
        • 博物馆/历史遗址和类似机构
      • 教育/研发及政府机构
        • 研究所及分析测试中心
      • 能源与环境
        • 电池
        • 煤炭和消耗性燃料
        • 电气设施
        • 能源燃油
        • 环境评估
        • 石油和天然气
        • 石油和煤炭产品制造
      • 食品和饮料
        • 饮料
        • 食品
      • 医疗保健
        • 生物技术
        • HORIBA 体外诊断行业的专家
        • 生命科学
        • 医药
      • 工业
        • 建筑产品
        • 商业及专业服务
        • 电气设备
        • 机械
      • 信息科学
        • 半导体制程
      • 材料
        • 化学品
        • 化工制造
        • 容器和包装
        • 有色金属
        • 非金属矿
        • 纸张、林产品和制造业
        • 塑料和橡胶
        • 原料金属
      • 交通出行及运输
        • 汽车及零部件
        • 汽车制造
        • 其他运输设备制造
      • 废物管理
        • 固体废物燃烧、管理
        • 水废物管理和修复服务
      • 水
    • 技术分类
      • 原子光谱
        • 能量色散X射线荧光(EDXRF)
        • 辉光放电光发射光谱仪
        • 电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES)
        • 无机元素分析
        • β射线吸收法分析仪
      • 电化学
        • Potentiometry based on Ion-Selective Electrode (ISE)
      • 生命科学技术
        • 免标记检测/表面等离子体共振成像(SPRi)
      • 质谱仪
        • 等离子体分析飞行时间质谱仪(PP-TOFMS)
      • 材料表征
        • 比色法
        • 冷凝粒子计数器 (CPC)
        • 使用动态光散射 (DLS) 法进行颗粒表征
        • 磁气分析
        • 机械式流速仪
        • 压差式质量流量控制器
        • 椭圆偏振光谱仪
        • 静态光散射 (SLS) / 激光衍射粒度分布分析
      • 分子光谱
        • 吸收和透射光谱(紫外/可见/近红外)
        • 阴极荧光光谱(CL)
        • 化学发光
        • 荧光光谱
        • 傅里叶变换红外光谱 (FTIR)
        • 非分散红外吸收光谱(NDIR)
        • 非分散性紫外光谱 (NDUV)
        • 光致发光 (PL) 和电致发光 (EL)
        • 量子级联激光 (QCL) 光谱
        • 拉曼成像与光谱学
      • 辐射
        • 晶体闪烁
      • 表面科学技术
        • 等离子体分析飞行时间质谱仪(PP-TOFMS)
        • AFM-Raman(同区域测量和TERS)
  • 应用
    • 艺术品/博物馆
      • 文物保护
      • 博物馆、历史遗址和类似机构
    • 教育、研发及政府机构
      • 研究所及分析测试中心
    • 能源与环境
      • 氢能
        • 您在能源政策和法规方面的合作伙伴
        • HORIBA正在应对许多行业的挑战
        • 全球合作
        • Fuel Cells
        • 燃料电池(移动和固定使用)
        • Fuel Cells (for Stationary Use)
        • 氢/氨发动机和涡轮机
        • 加氢站
        • 电解水
        • 氢气制造
        • 碳回收
      • 煤炭和消耗性燃料
      • 电气设施
      • 能源燃油
      • 环境评估
      • 石油和煤炭产品制造业
        • 石油化工
      • 光伏
      • 石油和天然气
      • RoHS和 ELV
    • 食品和饮料
      • 农业
      • 研究和发展
      • 饮料
      • 食品
      • 食品 / 饮料生产
    • 医疗诊断
      • 生物化学
      • 生物技术
      • 人类健康及诊断
      • 生命科学
        • 细胞生物学
        • 血液检测
        • 蛋白质组学
        • 微生物学
        • 结构生物学
        • 基因组学
        • 生物工程
        • 纳米科学
        • 个人护理
      • 医药
        • 化妆品
        • 药物发现与开发
        • 药物输送
        • 打假
        • 质量监控
        • 生物工艺
        • 分析化学
    • 工业
      • 电池
      • 商业及专业服务
        • 气体质量流量控制与测量和对PM2.5参考值的测量
      • 建筑与工程
      • 电气设备
      • 机械
    • 信息科学
      • 半导体
        • 二维材料
        • 石墨烯
        • 光伏
        • 显示技术
        • 数据存储
        • 纳米材料
      • 半导体制程
      • 信息设备
    • 材料
      • 陶瓷
      • 化学
        • 肥料、检疫
        • 聚合物、塑料
        • 分析化学
      • 化工生产
      • 建筑材料
      • 包装材料
      • 金属粉末
      • 有色金属
      • 非金属矿
        • 玻璃
        • 涂层
      • 纸,林业制品
      • 塑料和橡胶
      • 金属原材料
      • 材料研究
        • 腐蚀
        • 二维材料
        • 量子点
        • 碳材料-石墨烯
        • 纳米材料
      • 光伏
      • 法庭科学
      • 地质
        • 宝石
    • 交通出行及运输
      • 汽车制造
      • 发动机、涡轮机和动力传动设备制造
      • 实际驾驶排放
      • RDE Plus
    • 废物管理
      • 固体废物燃烧、管理
      • 废水管理和修复服务
        • 废水和土壤分析
        • 废水处理
    • 水质
      • 饮用水处理监测
      • 水循环
        • 水质检测
  • 技术
    • 元素分析
      • 电感耦合等离子体发射光谱仪 (ICP-OES)
        • 电感耦合等离子体发射光谱仪 (ICP-OES)
        • HORIBA ICP 等离子体发射光谱仪
        • ICP-OES 的主要应用领域有哪些?
        • ICP-OES 与其他技术的区别
        • 原则和理论
        • 仪器组成及原理
        • 激发源
        • 色散系统
        • ICP-OES 的检测系统
        • ICP-OES 的性能
      • 碳/硫和氧/氮/氢分析
    • 体外诊断技术
      • MDSS微量分血技术
      • 网织红细胞分析技术
      • CRP
      • 全自动推染片系统
      • 结果管理
      • 吸光度
      • 荧光分析技术
      • 流式细胞术
      • 阻抗法
      • 沉降作用
      • 分光光度法
      • 电位分析法
      • 体外诊断技术
      • 凝固法
      • 免疫比浊法
      • 显色法
    • 光散射
      • 动态光散射(DLS)粒径分布分析
      • Molecular Weight
      • Nanoparticle Tracking Analysis
      • 静态光散射(SLS)/激光衍射粒度分布分析
      • Zeta Potential
      • Centrifugal Sedimentation
    • 流体控制
      • 临界化学过程的汽化
      • Thermal Mass Flowmetry
    • 显微&成像
      • 纳米拉曼(AFM-Raman)
        • 什么是AFM/Raman同区域成像?
        • 什么是针尖增强拉曼光谱?
        • TERS 能够提供什么信息?
        • TERS 中拉曼信号是怎样增强的?
        • TERS 仪器的耦合方式有哪?
        • TERS 针尖的制备工艺?
        • TERS 测试需要什么基底?
        • 什么是用于 TERS 的扫描探针显微镜反馈?
        • 什么是 TERS 的空间分辨率?
        • 怎样定义 TERS 的增强因子?
        • 什么是非线性 TERS?
        • 什么是 TERS 退解问题和虚假信号 ?
        • TERS 在材料科学中主要有哪些应用?
        • TERS 在生命科学中主要有哪些应用?
        • 参考文献
        • 相关仪器
      • 原子力显微镜(AFM)
      • 阴极荧光光谱
      • 颗粒图像分析
      • 显微X射线荧光
      • 拉曼光谱
    • 光谱技术
      • 阴极荧光光谱
        • 阴极荧光光谱
        • 电子显微镜
        • 扫描电子显微镜、环境扫描电子显微镜、聚焦离子束扫描电子显微镜和(扫描)透射电子显微镜的主要区别是什么?
        • 电子显微镜扩展探头
        • SEM-阴极荧光光谱(SEM-CL)
      • 纳米拉曼(AFM-Raman)
      • 探测器
      • 衍射光栅的50年历程
      • 全息光栅和刻划光栅
      • 荧光光谱
        • 荧光光谱
        • 荧光光谱的基本理论
        • 什么是雅布朗斯基图?
        • 什么是荧光测试技术?
        • 稳态荧光技术
        • 什么是荧光各向异性 ?
        • 什么是发光量子产率?
        • 什么是比率荧光?
        • 什么是三维荧光 (EEM,激发发射矩阵 )?
        • 什么是 A-TEEM 光谱 ?
        • 什么是单线态氧?
        • 如何计算信噪比
        • 荧光寿命技术
        • 荧光光谱仪及相关产品
      • HORIBA下一代的红外气体分析技术IRLAM
        • 光学组件
        • 浓度计算算法
        • 应用领域
      • 拉曼光谱
        • 拉曼光谱
        • HORIBA 拉曼创新 50年回顾
        • 拉曼光谱应用领域概述
        • 与其他技术对比
        • 拉曼分析技术
        • 采集拉曼光谱成像和剖面图
        • 拉曼联用技术
        • 共焦显微拉曼光谱
        • 硬件技术
        • 拉曼分析技术
        • 图片库
        • 相关产品
      • 光谱仪、单色仪和摄谱仪
        • 光谱仪、单色仪和摄谱仪
        • 单色仪系统光学元件
        • 光谱带宽和分辨率
        • 阶次、分辨率和色散值
        • 如何选择单色仪和摄谱仪
        • 光谱仪的光通量和光展量
        • 光学信噪比和杂散光
        • 入口光学
        • 光谱仪、单色仪和摄谱仪相关产品
      • 椭圆偏振光谱
        • 椭圆偏振光谱仪:基本概念
        • 椭圆偏振光谱的优势
        • 仪器介绍
        • 测量技术
        • 数据分析
        • 什么是柯西色散模块?
        • 椭圆偏振光谱仪
      • 真空紫外光谱
        • 真空紫外光谱
        • VUV technology
        • High Vacuum (HV), Ultra High Vacuum (UHV), gas purge
        • Light sources in VUV
        • VUV system: Detector
        • Aberration
        • References - Articles
      • X射线荧光
    • 表面等离子体共振
      • Surface Plasmon Resonance imaging
        • 表面等离子体共振成像(SPRi)
        • 技术简史
        • SPR 测量、应用领域及与其他技术的比较
        • 免标记生物分子相互作用基础
        • 仪器
        • SPRi 应用
        • 关键附件、传感芯片、表面化学
        • 分子是如何固定在生物芯片上的?
        • 结论和参考文献
  • 服务
    • 分析服务
      • 应用及服务中心
    • 标定和认证
      • 标定中心
    • 客户支持
      • HORIBA 医疗客户服务中心
      • 现场支持
      • 软件升级
      • STARS 软件服务平台
    • 保养
      • 测功机及其他大修服务
      • 定期维护
    • 备件和易耗品
    • 测试和咨询
      • 测试中心
  • 企业
    • 关于HORIBA
      • 主页
      • 集团主席兼CEO堀场厚致词
      • 企业概要
      • 企业哲学
      • Corporate Governance
      • 企业文化
      • 历史
        • 1945–1960年代
        • 1970年代
        • 1980年代
        • 1990年代
        • 2000年代
        • 2010年代
        • 2020年代
      • 集团公司
    • 活动
    • 招聘信息
    • 新闻
    • 集团公司
      • 美洲
        • 巴西
        • 加拿大
        • 美国
      • 亚洲
        • 中国
        • 印度
        • 印度尼西亚
        • 日本
        • 韩国
        • 菲律宾
        • 新加坡
        • 中国台湾
        • 泰国
        • 越南
      • 欧洲
        • 奥地利
        • 比利时
        • 捷克共和国
        • 法国
        • 德国
        • 意大利
        • 荷兰
        • 波兰
        • 葡萄牙
        • 罗马尼亚
        • 俄罗斯
        • Spain
        • 瑞典
        • 土耳其
        • 英国
  • 联系
    • 联系表
    • 全球分布

Fluid Measurement and Control open open
  • Thermal Mass Flowmetry
  • HORIBA
    • Products
    • Applications
    • Technology
    • Service
    • Company
    • Contact
    Technology
    • Elemental Analysis
    • Health Care
    • Particle Analysis
    • Fluid Control
    • Mass Spectrometry
    • Microscopy and Imaging
    • Physisorption
    • Spectroscopy
    • Surface Plasmon Resonance
    • Automation
    Fluid Control
    • Vaporization of Critical Process Chemistries
    Fluid Measurement and Control
    • Mass Flow Controller
    Thermal Mass Flowmetry

Mass Flow Controller

What is a Mass Flow Controller?

A mass flow controller automatically controls the flow rate of a gas according to a set flow rate sent as an electric signal, without being affected by use conditions or changes in gas pressure.  Flow rates can be roughly classified into two types: volumetric flow and mass flow.  A volumetric flow measurement is affected by ambient temperature and pressure.  To see the true flow, the pressure and temperature conditions need to be pressure conditions, therfore providing much more accurate and stable flow measurement and control.  Our mass flow controllers are used in a wide range of industrial fields as indispensable equipment when accurate control of flow rates is required or an automated production line is built.

Structure and operating principles

These mass flow controllers have a flow rate measurement section that includes a sensor, bypass, flow rate control valve, and special circuitry.
The gas is input from an Inlet joint, and is divided so that it flows over both the flow rate sensor and a bypass. The sensor measures the mass flow rate of the gas, and the flow rate control valve modifies the flow rate so that the difference between the measured flow rate and the flow rate received from the external flow rate setting signal is 0 (zero).
The units feature a loop circuit, so even if there is a secondary pressure change or ambient temperature change that could affect the supply pressure of the introduced gas, the flow rate is instantaneously corrected, which ensures stable flow rate control.

Operating Principle

  1. The gas, which enters from the inlet, first splits to flow past the sensor or through the bypass.
  2. At the sensor, the mass flow rate is detected as a proportional change in temperature and converted by the bridge circuits to an electrical signal.
  3. This signal passes through the amplification and correction circuits, and is output as a linear voltage between 0 to 5V.  At the same time, it is also sent to the comparison control circuits.
  4. The comparison control circuit compares the flow rate setting signal and the acutual flow setting signal from the sensor and sends a difference signal to the valve driving circuit.
  5. The flow rate control valve movers as appropriate to make the difference between the reguired flow set point and flow output signals approach zero.  In other words, the unit controls the flow so that it is always at the set flow rate.

Product characteristic of Digital Mass Flow Controller

The Digital Mass Flow Controller is shown in the diagram above.
These mass flow controllers have a flow rate measurement section that includes a sensor, bypass, flow rate control valve, and special circuitry. A CPU is part of the circuitry, which makes it both multi-functional and highly efficient.
The units feature a loop circuit, so even if there is a secondary pressure change or ambient temperature change that could affect the supply pressure of the introduced gas, the flow rate is instantaneously corrected, which ensures stable flow rate control.

Liquid Mass Flow Control - Measurement Principles

Cooling measurement method

The flow rate sensor in the LF-F/LV-F series of fine mass flow controllers for liquids consists of an electronic cooling element (Peltier element) that is in contact with a capillary tube, as well as several temperature detection elements. When the liquid is flowing, the sensor detects the temperature rise (⊗T) corresponding to the flow rate and displays it as a flow rate. Unlike methods where heat is added, this cooling method enables flow rate measurement of liquids with low boiling points. It also prevents problems with interference due to the influence of secondary discharge (vaporization) and makes accurate flow rate measurements possible.

Structure/Operating principle

The LV-F series of mass flow controllers are similar to the LF-F series of mass flow meters, but also have a piezo actuator valve and an internal comparison control circuit. They compare the flow rate setting signal and the flow rate output signal and automatically control the valve aperture so that the two signals will match. Since they use a feedback control system, there are no flow rate variations as a result of external factors, and, therefore, stable, accurate control is possible. The use of a piezo actuator valve, which is both stable and does not generate heat, as the control valve makes these units ideal for flow control of liquids with low boiling points.

Liquid Source Vaporization Control Systems - Principle of Vaporization

Injection method

The following list covers the major steps involved in vaporizing a liquid source and supplying it to the process chamber.

1. The liquid source's flow rate is measured and the amount of liquid is feedback controlled by the valve.

2. The liquid is instantaneously and completely vaporized.

3. The gas is released without being allowed to condense back into its liquid form.

Vaporization systems that use the injection method sequentially carry out steps 1, 2, and 3 listed above. The VC series units measure the liquid flow of the liquid source using a mass flow meter and do not use a carrier gas.  The MI/MV series units use a mass flow meter for measurement and feature a mass flow controller that introduces a carrier gas into the unit to vaporize the liquid source.

 

  

Gas and liquid mixture method

This is the vaporization method used in the MI/MV series. Since the pressure on the carrier gas is higher at the front of the nozzle inside the injector, it can be heated efficiently. The liquid source and the heated carrier gas are mixed together in the gas/liquid mixing area in the front of the nozzle, and the pressure is reduced as they pass through the nozzle, vaporizing the mixture. Vaporization efficiency is higher than with traditional vaporization methods. When this method is used, larger flows can be generated, and the generation temperature can be reduced.

留言咨询

如您有任何疑问,请在此留下详细需求信息,我们将竭诚为您服务。

Browse products

SEC-Z700S Series
详情 SEC-Z700S Series

New concept Pressure Insensitive Mass Flow Controller

FS-3000
详情 FS-3000

Thermal Flow Splitter

SEC-N100 Series
详情 SEC-N100 Series

Digital Mass Flow Controller

SEC-8000 F/D/E Series
详情 SEC-8000 F/D/E Series

High Temperature Digital Mass Flow Controller

SEC-Z700X Series
详情 SEC-Z700X Series

Pressure Insensitive Mass Flow Controller

SEC-400 Series
详情 SEC-400 Series

Mass Flow Controller

LF-F/LV-F Series
详情 LF-F/LV-F Series

Digital Liquid Mass Flow Meters / Controllers

SEC-E Series
详情 SEC-E Series

Mass Flow Controller

SEC-Z500X Series
详情 SEC-Z500X Series

Multi Range/Multi Gas Digital Mass Flow Controller

  • 产品
    • 全部产品
    • 汽车
    • 医疗
    • 过程与环境
    • 科学仪器
    • 半导体
  • 应用
    • 饮用水处理监测
    • 汽车制造
    • 半导体制程
    • 研究所及分析测试中心
  • 技术
    • 辉光放电光谱
    • 压力流量计
    • 四级质谱
    • 拉曼光谱
  • 服务
    • 现场支持
    • 备件和易耗品
  • 企业
    • 新闻
    • 活动
    • 招聘
    • 历史
    • 企业文化
  • 联系
    • 招聘联系
    • 联系表
    • 全球分公司
    • 投资者关系

条款和条件 隐私声明 Cookie