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薬液濃度モニタは半導体プロセスの進化に伴い、［モニタ→フィードバック→コントロール］というプロセス制御の必須アイテムとして、より高度な役割が求められるようになってきています。FEOL から BEOL までの薬液濃度管理に適した薬液濃度モニタを幅広くラインアップし、お客様のニーズにあわせてご提案いたします。
ウェットプロセスにおけるHORIBAのトータルソリューション
薬液を非接触でモニタリング、据付、配管等施工等のコストを削減
冷却不要で高濃度・高温リン酸のリアルタイム測定を実現
独自の技術によるウェットプロセス用の薬液濃度管理に適した多彩な薬液濃度モニター
薬液等の液中における溶存酸素濃度測定に最適
最大6成分までの多成分の薬液濃度変化をppmレベルでリアルタイムに測定が可能
シリコン・化合物の半導体材料分析ソリューションを数多く提案
＜出展ソリューション ダウンロードページ＞ ・Material Characterization ・CMP Process Evaluation ・Endpoint Detection ・Utility / Facility ・Fluid Control ・Mask Inspection ・Chamber Health Monitoring
HORIBA SHOWCASE 「SEMICON Japan 2023」 トップページにもどる
