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ガス流量制御による装置間のばらつきを削減し、歩留まりを向上させたい。
100msecの高速応答と低流量での高精度を実現したマスフローモジュール
ワイドレンジ制御と低流量での高精度を実現したマスフローモジュール
ガスパネルをコンパクトにする10mm幅の超コンパクトマスフローモジュール
半導体製造プロセスにて、チャンバーに導入するプロセスガスを任意の比率に分配
チャンバー内でウェハの温度制御に用いるガスの圧力制御を高精度に行う、ウェハ裏面圧力制御システム
最適な気化システムを総合的にご提案
シリコン・化合物の半導体材料分析ソリューションを数多く提案
<出展ソリューション ダウンロードページ> ・Material Characterization ・CMP Process Evaluation ・Endpoint Detection ・Utility / Facility ・Chemical Concentration Monitor ・Mask Inspection ・Chamber Health Monitoring
HORIBA SHOWCASE 「SEMICON Japan 2023」 トップページにもどる