半导体制造
如今半导体成为工业进化中的核心部件。HORIBA始终聚焦于半导体的微观世界。HORIBA各个领域的专家学者们始终致力于不同行业的工程项目研究，诸如评估和分析、超纯水的纯度、气液体的成分，更广泛地说即环保和安全。伴随HORIBA明确针对全工艺流程的目标，我们已成功开发了一系列的分析设备，液体控制和监测系统已适应半导体制程中每一步工艺所需的严格质量控制需求。在制程的整个阶段，从材料分析到最终检查，HORIBA产品能始终帮助客户在高精尖端的电子器件制程达到高效能。
相关产品
以下您可以看到不同阶段的半导体制程工艺。请点击每个步骤以便更清晰了解每个工艺制程中所需的产品。
Silicon crystal is widely used in semiconductors. The PHOTOLUMINOR-D has been designed especially for quantitative impurity analysis of silicon crystals with high sensitivity.
The application of photoluminescence for the quality...
PR-PD2是通过激光散射方式对曝光工艺中光掩模上的细小颗粒进行检测的装置。可检测光掩模图案面(Pattern Surface)上的最小粒径为0.35μm。并且通过线＆空间1.0〜1.5μm的图案识别功能，可以把检测误差抑制在最低限度。
外形小巧、运营成本低、应用范围广
HORIBA的PD系列产品运转效率高，具有长期稳定性，受到众多半导体制造工厂的高度评价。继承了各个结构简单、长期稳定运转的搬运系统，高通过量、可靠性高的光学系统，以及具有防误测功能等高性能设备并巧妙组合成一个整体的产品就是PR-PD3。和以往的机型(PR-PD2)相比，它的外形尺寸小了约1/2，追求低运营成本。检测灵敏度达到0.5μm，具有广泛通用性。诞生了可以用来满足光掩模(reticle/mask)上异物检测这一广泛需求的简便装置。
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In-line compact vapor concentration monitor, enables MOCVD precursor delivery to be stable.
HORIBA科学仪器事业部推出了新一代研究级光谱型椭圆偏振光谱仪，它具有最高的精确度、重复性、灵敏度，且具备独一无二的功能特性，是用于表征纳米和微米膜层的有力工具。UVISEL 2具有完备的全自动特性，操作简单、快速，可广泛应用于各类现有及新兴领域。
