SEMICON Japan 2022  出展・セミナーのご案内

HORIBA独自の制御・計測・分析ソリューションで
LabからFabへ全方位でのご提案

パソコン、スマートフォン、各種センサーやAI、自動車、自動運転などあらゆる分野で必要とされ、産業のコメといわれる半導体。年々微細化も進み、さまざまなパラメータの計測ニーズは日々増えています。
HORIBAは多岐にわたる独自の制御・計測・分析ソリューションで、半導体工場の研究から製造プロセス、環境管理までをトータルサポートします。

 

セミナープログラム  展示ソリューション  会場案内

セミナープログラム

「はかる」で貢献、
HORIBAのプロセスモニタリング

半導体プロセスでは、様々なパラメータのリアルタイムモニタリングが重要といわれています。本セミナーでは、HORIBAのコア技術である分析計と各種プロセスモニターでの「はかる」技術の活用事例を紹介します。

先端半導体プロセスにおけるHORIBAの差圧式マスフローモジュールの進化

HORIBAは先端半導体プロセスが抱える生産性向上や歩留まり改善等の課題解決のためのガス制御技術を追求しています。本セミナーでは、差圧式マスフローモジュールの技術進化とそれによる顧客価値を紹介します。

半導体WETプロセスにおけるHORIBAの計測技術の紹介

薬液管理によるプロセスの最適化に加えて、環境負荷の観点から代替薬液や機能水の導入が増え、新たな薬液測定の需要が増えると想定されます。本セミナーではHORIBAの最新機種と共に事例を紹介します。

 

 

展示ソリューション

流体制御

ガス流量制御による装置間のばらつきを削減し、歩留まりを向上させたい。

<代表製品>
→超薄型マスフローモジュール CRITERION DZ-100 Series
→製品ラインアップはこちら

薬液濃度モニタリング

薬液に接液することなく、非接触で安全にコンタミのリスクなく薬液濃度の測定を行いたい。

<代表製品>
→非接触型薬液濃度モニタ CS-900
→半導体製造プロセス用 溶存酸素濃度モニタ HD-960LR

フォトマスク異物検査

レティクル/ブランクス/ペリクルに付着した異物を迅速に測定&除去したい。


→関連情報はこちら

膜厚・異物評価

金属薄膜の膜厚やICパッケージ内の不良原因を評価したい。

<代表製品>
→微小部X線分析装置 XGT-9000 Pro/Expert
→遠心式ナノ粒子解析装置 Partica CENTRIFUGE

チャンバー状態監視

プロセス結果に影響のある残留ガスを確認し、歩留まり・稼働率を向上させたい。

<代表製品>
→Micropole System QLシリーズ
→装置組込み型 放射温度計 IT-270
→キャパシタンスマノメータ 隔膜式真空計 VG-200S

エンドポイント検出

プラズマプロセスのエンドポイントやプラズマの分布制御により、生産性を向上させたい。

<代表製品>
→プラズマ発光モニタ EV2.0 Series
→チャンバークリーニング終点検知用ガスモニタ IR-400 Series
→マルチチャンネル分光器 M116

ファシリティ管理

毎日手洗浄が必要な現場で、メンテナンス負荷や試薬量を低減し、排水のpH値を安定して測定したい。

<代表製品>
→工業用無補充式セルフクリーニングpH電極

会場案内

・HORIBAブースNo.4608(東4ホール)
・会場:東京ビッグサイト(東京国際展示場)東展示棟1~5ホール