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拠点情報
▶流体制御 ▶薬液濃度モニタリング ▶フォトマスク異物検査 ▶半導体材料評価
▶チャンバー状態監視 ▶エンドポイント検出 ▶ファシリティ管理
ガス流量制御による装置間のばらつきを削減し、歩留まりを向上させたい。
流体制御技術
ガス流量制御による装置間のばらつきを低減し、生産性や歩留まりの向上に貢献
チャンバー内でウェハの温度制御に用いるガスの圧力制御を高精度に行う、ウェハ裏面圧力制御システム
ガスパネルをコンパクトにする10mm幅の超コンパクトマスフローモジュール
流量精度、再現性、応答性能など必須の性能を備えたマスフローモジュール
半導体製造プロセスにて、チャンバーに導入するプロセスガスを任意の比率に分配
薬液に接液することなく、非接触で安全にコンタミのリスクなく薬液濃度の測定を行いたい。
WETプロセスにおける薬液濃度計測をサポート
半導体製造工程の現場にあった薬液濃度モニターを幅広くラインアップ
薬液等の液中における溶存酸素濃度測定に最適
冷却不要で高濃度・高温リン酸のリアルタイム測定を実現
薬液を非接触でモニタリング。据付、配管等施工等のコストを削減
独自の技術によるウェットプロセス用の薬液濃度管理に適した多彩な薬液濃度モニター
高精度な温度補償性能を持ち、超純水の連続モニタリングに最適な比抵抗計
工業排水から、各種工業分野における製造工程の監視、品質検査まで幅広く対応
1測定あたり500μLの極微量なサンプリング量でpHの連続測定が可能
レティクル/ブランクス/ペリクルに付着した異物を迅速に測定＆除去したい。
リソグラフィ工程において異物を迅速に測定＆レビュー。スマートファクトリー対応を実現
レティクル/マスク製造プロセスの検査ニーズを満たす優れた性能
エアーブローと真空吸引で異物を自動除去
半導体薄膜の膜厚・膜質・応力やCMPスラリー粒子径、電子基板の異物などを評価したい。
Metrology [分析・計測技術]
Chemical Mechanical Planarization [分析・計測技術]
お客様の真の分析パートナーとして、最先端材料の研究開発から品質管理まで役立つ分析装置をご提案
シリコン・化合物の半導体材料分析ソリューションを数多く提案
アプリケーションに応じて、グレーティングからシステムまで一貫した設計を自社で行っています
業界最高レベルの応力分解能 ※2022年7月自社調べ
性能とユーザビリティを両立したラマン分光装置がデビュー
コンパクトで高感度なラマン分光装置
AFMとラマン分光が同時に測定可能なナノイメージング装置
簡単・迅速な定量分析で、生産現場での工程管理を効率化
超薄膜の膜厚・屈折率・消衰係数を分析、膜質の均一性を評価
マイクロスポット機能により数十㎛エリアの膜厚・膜質を分析可能
迅速深さ方向元素分析をH～Ｕまで対応。超高真空不要ですぐ測れる
SEMのボードに挿入でき、ラマン分析とカップリングが可能
超高感度・高波長分解能と高い拡張性で広い発光波長範囲に対応
キャリア寿命評価が可能、多彩な光源波長で、ワイドレンジ（ピコ秒～数秒）に対応
新手法！ A-TEEM（新三次元蛍光測定）を実現、新たな蛍光指紋測定を提案
原液～希薄試料まで解析。少量の異物を凝集観察し、長時間安定に測定可能
一台でナノ粒子の粒子径・ゼータ電位を分析
[特徴・仕様] 大好評の高濃度セルに加えて、画像解析ユニットが新登場
[アクセサリ] ワイドレンジで高濃度まで測定可能な粒子径分布測定装置
金属や固体材料中の酸素・窒素・水素の分析が可能
B（ホウ素）からの軽元素分析対応、金属薄膜の膜厚分析、電子部品内の透過観察に対応
プロセス結果に影響のある残留ガスを確認し、歩留まり・稼働率を向上させたい。
チャンバー状態監視
専用ソフトウェアを用いて、高精度にエッチングプロセスやドライクリーニングの終端検出を可能にするプラズマ発光モニター
接ガス部にステンレス材料を用いた小型・自己温調タイプの絶対圧力計
小型で業界最高水準※の精度を実現した装置組込みタイプの放射温度計 ※自社調べ
コンパクトなボディに質量分析計に必要な機能の全てを搭載。チャンバー内のガス成分監視に最適
バブリングを用いたガス供給ラインにおけるプレカーサ―の濃度モニタリング・制御機器
オールメタル構造の自己温調型隔膜式真空計
CVD装置のドライクリーニングの終端検出を行い、クリーニングプロセス時間の最適化に貢献
超小型設計で高精度な温度モニタリング・制御を実現
プラズマプロセスのエンドポイントやプラズマの分布制御により、生産性を向上させたい。
生産ラインの半導体プロセスから、研究用途のプラズマ発光分析まで、HORIBAの分光器技術を紹介
毎日手洗浄が必要な現場で、メンテナンス負荷や試薬量を低減し、排水のpH値を安定して測定したい。
スマートファクトリーに向けた連続モニタリングのご提案
UV光と光触媒で有機汚れを分解
1台で煙道排ガス中の最大5成分の同時測定が可能。N2O・メタン・SO2の連続計測もサポート
堅牢性・機能性・保守性を極めた現場形工業用水質計
半導体デバイスのWet ProcessにおけるHF中溶存酸素濃度を安定測定
超純水のシリカ分析に、コンパクト＆高感度な新性能
可搬型で高精度な連続ガス分析が可能
微量不純物ガスをppbレベルで常時監視
超純水プラントでの高精度な水質監視に最適。温度補償性能を飛躍的に向上した比抵抗計
時間帯ごとの急激な変動も見逃さない自動連続測定を実現
分子状汚染物質の室内大気のトレンドを自動で監視、クリーンルーム内の汚染原因の推定に
地球環境の保全と産業プロセスにおけるトータルソリューションを提供
純水、上水、プロセス、そして排水まで
pH電極の薬液洗浄などを自動化しメンテナンス作業の大幅に削減
