PyroSense Series

In-Situモニタリングシステム

PyroSenseシリーズは、MOCVD/MBEにおけるエピタキシャル成長プロセス用のin-situ監視システムです。成膜プロセス中の温度、膜厚(成長速度)、反りをインラインで監視します。CVD、MBE、ALDなどの成膜装置向けin-situ監視ツールとして、リアルタイム放射率による温度測定、反射率による反り測定、膜厚(成長速度)測定を実現します。

 

製品ライン

PyroCurveSense
温度・膜厚・反りを測定できるオールインin-situモデル

PyroSense
温度・膜厚を測定出来るin-situモデル

PyroSense-T
Si-ALDプロセス向け低温領域測定対応モデル

モデル温度反射率曲率
PyroSenseOOX
PyroCurveSenseOOO
PyroCurveSense+O (2 Ch)O (2 Ch)O
PyroCurveSense++O (3 Ch)O (3 Ch)O
事業セグメント: 半導体
製品分類: Metrology

特長:

  • 適用分野:MOCVD、MBE、熱CVD
  • 対象材料:Si、Ga(Al, In)N、SiC、GaAs、InP
  • モニタリング:放射率補正温度、反射率、曲率
  • 反射率測定:3波長対応:405、633、950nm
  • 分析:成長速度と厚さ
  • マルチチャンネル:最大3つの光学ヘッド
  • ユーザーフレンドリーなプログラムインターフェース

 

測定原理

光の透過と反射を利用し、膜と膜の光の位相差を利用することで、膜厚や反り等をオールマイティに測定可能
成長率はd/T(垂直入射、β=0)で計算可能

 

測定アプリケーション

アプリケーション例:MOCVD, Thermal CVD, ALD, LPCVD

 

Pyro CurveSense の実際の測定画面

 

Pyro CurveSense 測定結果の利用例

ModelPyroSensePyroCurveSense / PyroCurveSense+ PyroCurveSense++
TemperatureRange [°C]450 ~ 1,500
Resolution [°C]0.1
Accuracy [°C]±1.0
Wavelength [nm]950 ± 5
Sampling rate [Hz]1,00050,000
ReflectivityWavelength [nm]405, 633, 950 ± 5
Range [%]0 ~ 100
Resolution [%]0.1
Accuracy [%]±1.0
Growth rate
Accuracy [%]
±1.5
Sampling rate [Hz]1,00050,000
CurvatureRange [km-1]-1,400(concave) ~ +2,000 (convex)
Resolution [km-1]2.0
Accuracy [km-1]±1.0
GeneralRPM [rpm]5 ~ 120100 ~ 1,200
Power [V]AC 110~220 (50/60Hz)
Dimension [mm]
(W X H X D)
Head : 35X34X93
Controller : 250X300X90
Head 1 : 35X34X93
Head 2 : 157X58X134
Controller : 250X300X90
Head 1 : 35X34X93
Head 2 : 95X58X134
Controller : 250X300X90
Weight [kg]Head : 0.6
Controller : 3.0
Head 1 : 0.6
Head 2 : 2.0
Controller : 3.0
Head 1 : 0.6
Head 2 : 1.5
Controller : 3.0

外形寸法

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