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半導体製造装置向け薬液濃度モニター、最上位機種を受注開始

2013年11月25日


450mmウエハ製造も視野、測定精度2倍*で高温洗浄工程にも対応
本体容積は従来比4割も削減、省スペースで生産設備を最適化

当社は、半導体事業の主力製品で、洗浄やエッチング工程で薬液濃度を測る薬液濃度モニターの最上位新機種「CS-600F」の販売を本格化します。半導体の微細化・大口径化に伴い、表面処理の均質性や歩留りを左右する薬液処理で濃度の精密管理が求められています。このたび、本体容積を従来比4割減に小型化し設備配置の柔軟性を高めながらも、測定精度を2倍に高めることで、高温洗浄工程(80℃)でも測定値をより早く提供する最上位機種を開発しました。薬液が多種多様となる中で、“迅速・安定・省スペース”を実現する計器を提供することで、歩留り向上やプロセスの最適化へ貢献します。また、450㎜ウエハ製造プロセスの実現が期待される中で最上位機種を提供します。

最先端の半導体生産技術の動向

スマートフォンやタブレットPC製品を利用したクラウド情報処理社会に代表されるように、現在我々が生活をする上で取り扱われる電子データ量は急激に増加しており、その保存や処理に必要な半導体の量も増え続けています。加えて、医療機器や車載用制御機器など、従来のIT分野以外の半導体チップの消費先も成長が加速しています。
そのような背景の中で、半導体チップには更なる高性能化/小型化/コストダウンが要求されており、それらを達成するために半導体製造工程では、多重露光/ 3D化/TSVなど益々高度な製造技術を導入することで微細化/高集積化が進んでおり、また現在主流の300㎜ウエハと比べ2.25倍もの面積でチップが生産できる450㎜ウエハの研究開発も本格化しています。これらの製造技術の進化に伴い、洗浄やエッチング工程で用いられる薬液も、その成分、混合比率、温度の多様化が進んでいます。
ウェットプロセスでは、薬液が最も性能を発揮できる状態を維持すること、また薬液の消費/消耗を極力抑えコストを削減することが求められており、薬液濃度モニターによる濃度の管理は、その目的達成に非常に重要な役割を果たしております。濃度管理に求められる測定精度は年々厳しさを増していることから、このたび薬液濃度モニターの最上位機種として「CS-600F」を投入します。

薬液濃度モニター「CS-600F」の特長

  1. 測定精度2倍で高温洗浄薬液でも安定的な高精度濃度管理
    光学系の一新と演算処理の改良により、既存製品比2倍*の高い測定精度を実現。高温薬液(80℃)の安定した測定のために従来必要であった冷却ユニットが不要になり、応答時間も既存製品比で約1/3と大幅に短縮。
  2. 本体容積を従来比4割も削減、省スペースで生産設備を最適化
    光源ユニットと分析ユニットを分離型するとともに容積を既存製品比で4割も小型化。
  3. 製造装置のダウンタイム削減
    既存製品と比較し、光学系の一新により必要な定期補正頻度を大幅に低減。

薬液濃度モニターの役割

当該製品は、半導体製造においてウエハ上に回路を形成するエッチング工程および洗浄工程で使用される薬液の濃度モニタリングを行います。特に洗浄工程は欠陥の原因となる汚染物質を除去する役割があり、一連のパターン形成プロセスが繰り返されるたびに必ず行われ、半導体製造プロセスの30%を占めるとされています。半導体の構造が微細になるに従い洗浄技術も進歩し続けており、薬液の濃度モニタリングに対しても高い測定精度が要求されるようになっています。

開発者コメント

半導体製造プロセス市場では洗浄装置の省スペース化、生産性向上、プロセスの微細化に伴う薬液の低濃度化などが進んでおり、既存製品では性能面や機能面で対応が困難になりつつあります。顧客要求が益々高度化する中で、CSシリーズが今後もデファクトスタンダードであり続けるために、最上位機種として本製品を開発しました。

販売目標台数

2014年度:150台 2016年:200台

主な仕様

寸法・質量

本体:200(W)×308(D)×78(H)mm ・3.6kg
光源ユニット:200(W)×262(D)×100(H)mm・2.8kg

測定原理

吸収分光法

測定成分

代表例:アンモニアと過酸化水素の混合液

測定範囲

代表例:アンモニア:0~1 mass%、過酸化水素:0~5 mass%

薬液温度

20~80℃

(*)測定対象、測定濃度範囲による