*株式会社堀場エステック
半導体産業では膨大な数のマスフローコントローラ（MFC）が使用されており，MFCの効率的な生産方法が求められている。効率的な量産には，設定流量を実現するための比例積分（PI）制御のゲイン調整が本質的である。ゲイン調整は，設定毎の応答波形における応答時間とオーバーシュート量が評価指標を満たすように行われる。本論文で我々は圧力式MF C（D700）の製造に適用可能な，ガウス混合モデル（以下GMM）とその逆解析を用いたPIゲイン調整の簡易な方法を提案する。MFCの標準ユニットにおけるゲインと評価指標の関係はGMMとしてモデル化される。その逆解析では，基準機と試験機の差分が算出される。その差分は単純なシフトで補正できるという前提のもと，試験機の仕様を満たす可能性の高いゲインが探索される。我々はこの手法を7つの試験機に適用した結果，すべての試験機のゲインをわずか数回の反復で調整することができた。
