対応ケース | Nikon/Canon/SMIF POD/HORIBA |
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スループット | ガラス/ペリクル面を同時にブロー、約1分で異物を除去 |
外形寸法 | 1190 (D) x 1150 (W) x 1520 (H) mm |
レティクル/マスク/ウェハ異物除去装置
ブローと真空吸引で異物を自動除去
レティクル/マスクに付着した異物をAir(又はN2)ブローと真空吸引により自動除去します。露光前のルーチン運用で、毎回異物を除去する事により、ペリクルの貼り替えやマスクの洗浄周期を延ばし、ランニングコスト低減に寄与します。
ガラス面上異物除去時(20μmホウ珪酸ビーズ除去率データ)