CMPスラリー 粒子径分析


遠心沈降方式による数十nmのスラリー粒子径分析

コロイダルシリカのシングルnmレベルの差を検出しました。コロイダルシリカ表面のコーティング剤の有無の識別に有効です。


遠心式ナノ粒子解析装置 Partica CENTRIFUGE

原液~希薄試料まで精密な粒子径分布測定を実現(対応粒子径 : 10 nm~40 μm)
少ない異物や凝集も逃さずキャッチ
冷却機構搭載で、長時間でも安定した測定が可能

遠心式ナノ粒子解析装置 Partica CENTRIFUGE

CMPスラリー分散性分析


スラリー原液中の粒子分散性分析

CMPスラリーの品質管理として、100 nm以下のOK品および数μm前後の粗大粒子(NG品)を迅速に判別できました。


レーザ回折 / 散乱式粒子径分布測定装置 Partica LA-960V2

粒子径10 nm ~ 5000 μm まで対応
NISTトレーサブルな標準試料に対して±0.6% の高精度保証
高濃度セルを用いて高濃度状態での粒子径分布が測定可能

レーザ回折/散乱式粒子径分布測定装置(粒度分布) LA-960V2シリーズ

CMPスラリー中 粒子ゼータ電位分析


少量試料(100 μL~)でのスラリー粒子の帯電状態分析

CMP工程後の洗浄工程においてウェハ表面に残留する成分の分析が重要です。ゼータ電位はその評価の指標の一つとなっています。


ナノ粒子解析装置 nanoPartica SZ-100V2

1台3役 粒子径・ゼータ電位・分子量測定
粒子径0.3 nm~10 μm、ゼータ電位-200~+200 mVまで対応
ppmオーダの希薄系から数10%レベルの高濃度試料まで対応

ナノ粒子解析装置 nanoPartica SZ-100V2

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