Semiconductor

深さ方向元素組成分析

深さ方向元素分布分析

GD-OESによる化合物半導体薄膜の元素分析

中間層のAlGaAs成膜時のAl濃度を変化させた場合の元素分布を比較しました。 原子比において、数%以上の違いを捉えています。また、測定時間が2secと非常に短い時間で評価することができました。

試料表面元素分析

GD-OESによるGaN表面の軽元素分布分析

GaN表面付近のAl、H、Oの量の違いがあることがわずか30秒で判明しました。 マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置なら、μm / min オーダのスパッタリングレートにて、試料表面から深さ方向の元素分析が可能です。

GD-Profiler 2™
GD-Profiler 2™

マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置(GDS)

メールでのお問い合わせはこちら

HORIBAグループ企業情報