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ICP発光分析法による希土類元素の分析では、300~450nm付近に多数の発光スペクトル線が存在するため、分光干渉がなく精度の良い測定をするためにはテクニックが必要になります。その分析テクニックについてご紹介します。


ICP発光分析法による希土類元素の分析では、300~450nm付近に多数の発光スペクトル線が存在するため、分光干渉がなく精度の良い測定をするためにはテクニックが必要になります。その分析テクニックについてご紹介します。


高マトリックスな試料溶液中では、測定対象とするスペクトルの感度は、一般的に単純な水溶液のそれと比較して低下します。シーケンシャル型ICP発光分析装置ULTIMA2を用いて、10 g/Lの鉄と塩化ナトリウムを含む試料における装置の検出下限値を算出したので紹介します。


遠紫外領域は、比較的スペクトル線が少ないため分光干渉が少なく、複雑なマトリックス試料中に含まれる元素の測定には非常に有効です。そこで、鉄と銅を主成分とする試料に含まれるリンと硫黄についてスペクトル干渉の影響を確認したので紹介します。


rf-GD-OESは原子発光を応用した分光分析法のため、水素Hなどの軽元素の分析を行うことができます。よって、リチウムLiも測定できるということで、最近ではLi電池材料の分析・評価などに応用される場合があります。


GD-OES法は、水素Hを分析することができるというユニークな特長を有しています。


rf-GD-OESは原子発光を応用した分光分析法のため、水素Hなどの軽元素の分析を行うことができます。


ここでは、rf-GDによる前処理事例の一つとして、TEM観察前の前処理に応用した例をご紹介します。


ここでは、rf-GDによる前処理事例の一つとして、断面観察に応用した例をご紹介します。試料は、Si系半導体試料の断面試料です。


ここでは、rf-GDによる前処理事例の一つとして、断面観察に応用した例をご紹介します。試料は、Fe上ZnAlめっきの断面試料です。


ここでは、rf-GDによる前処理事例をご紹介するため、SUS304材の前処理前後におけるEBSD像を比較した結果を示します。


ここでは、rf-GDによる前処理事例をご紹介するため、鏡面研磨したステンレス板について、前処理前後を比較した結果を示します。


昨今、鉄鋼・アルミニウム・銅などの各種金属材料の入手が困難になり、成分・組成等が不明・不確かな材料が広く流通する傾向があるため、それらの成分分析(バルク分析)のために、GD-OESを活用するケースが増えてきています。


昨今、鉄鋼・アルミニウム・銅などの各種金属材料の入手が困難になり、成分・組成等が不明・不確かな材料が広く流通する傾向があるため、それらの成分分析(バルク分析)のために、GD-OESを活用するケースが増えてきています。


ここでは、バルク分析法としてのGD-OESの能力をご紹介するため、従来良く使われていたSPARK発光分析法との比較を行いました。


はんだの主成分から微量成分までの定量分析をおこなったので紹介します。


ICP発光分析装置ACTIVA-Mを用いて、低合金鋼中の鉄を除く主成分元素を簡易的に測定する手法を検討したので紹介します。


  • Ti、Cu、Al、SUS、Au、Cr、Niの光学定数の解析例

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