マーカス型高周波グロー放電発光表面分析装置（GDS）
GD-OES（GDS）とは
GD-OES(Glow Discharge Optical Emission Spectroscopy)とは、グロー放電領域のカソードスパッタリングを用いて、導電性・非導電性皮膜をスパッタリングし、スパッタされた原子のArプラズマ内における発光を分光測定する手法です。
迅速！ 深さ方向元素分析装置 rf-GD-OES
rf-GD-OES法とは
高周波グロー放電発光表面分析法（rf-GD-OES法）は、めっき・熱処理・蒸着・スパッタなど各種表面処理が施された試料の深さ方向元素分析（Depth Prof ile Analysis）を迅速に行う分析手法です。深さ方向への分析方法としては、二次イオン質量分析法（SIMS）、オージェ電子分光法（AES）、光電子分光法（XPS）や、試料切断・樹脂抱埋・研磨により作製した試料断面をSEMEDX観察やEPMAなどにて元素分析するのが一般的ですが、これらの方法は分析および分析までの前処理に時間や経験を要するなど難しい面があります。rf-GD-OES法は、迅速性に優れ、簡単に分析できるという特長を有しており、めっきなどの湿式成膜や蒸着・スパッタなどの乾式成膜で形成された薄膜に対する分析手法として活用されています。
rf-GD-OES法の原理 詳細はこちら 
- 迅速表面分析が可能なため、多検体の分析や製膜プロセスの管理に最適
- 非導電率材料の表面分析が可能
- パルススパッタ（特許）により低イメージ・高分解能測定が可能
- パルススパッタリングなど新スパッタ法を用いれば、有機系試料の測定が可能
- High Dynamic Detection機能を用いれば、半定量分析が可能
得られる情報
試料の深さ方向における元素の定性・定量分析
- 測定元素：H～U
- 感度（検出下限）：数10ppm～（元素・試料に依存）
- 深さ方向分解能：数nm～（試料形状に依存）
- スパッタ速度：1～20μm/min（材料に依存）
GD-OES（GDS）の用途
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